電子束光刻機

型號： ZEL304G

品牌： ZEPTOOLS(澤攸科技)

--- 產(chǎn)品參數(shù) ---

標(biāo)配激光干涉樣品臺
樣品臺行程 ≤105 mm
圖像分辨率 ≤1nm @ 15 kV；≤1.5 nm @ 1kV
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--- 產(chǎn)品詳情 ---

澤攸科技ZEL304G電子束光刻機（EBL）是一款高性能、高精度的光刻設(shè)備，專為半導(dǎo)體晶圓的高速、高分辨率光刻需求設(shè)計。該系統(tǒng)采用先進的場發(fā)射電子槍，結(jié)合一體化的高速圖形發(fā)生系統(tǒng)，確保光刻質(zhì)量優(yōu)異且效率卓越。標(biāo)配的高精度激光干涉樣品臺能夠滿足大行程高精度拼接和套刻需求，為復(fù)雜實驗和生產(chǎn)任務(wù)提供可靠支持。其核心優(yōu)勢在于卓越的成像能力和靈活的掃描模式，可實現(xiàn)多種矢量掃描方式，包括順序掃描、循環(huán)掃描和螺旋型掃描，同時支持多圖層自動曝光與場校準(zhǔn)功能，滿足多樣化的工藝要求。此外，設(shè)備兼容多種圖形文件格式，并可通過選配附件（如UPS不間斷電源和主動減震臺）進一步提升運行穩(wěn)定性。無論是新材料研究、前沿物理探索，還是半導(dǎo)體、微電子、光子學(xué)及量子技術(shù)領(lǐng)域的應(yīng)用，ZEL304G均表現(xiàn)出色，是科研與工程領(lǐng)域的理想選擇。

? 產(chǎn)品特色

▲ 激光干涉樣品臺：先進的激光干涉樣品臺，滿足大行程高精度拼接和套刻需求

▲ 場發(fā)射電子槍：高分辨場發(fā)射電子槍是光刻質(zhì)量的重要保證

▲ 圖形發(fā)生器：在保證超高速掃描的同時實現(xiàn)超高分辨率圖案繪制

? 樣品臺指標(biāo)

樣品臺指標(biāo)
標(biāo)配	激光干涉樣品臺
樣品臺行程	≤105 mm
電子槍及成像指標(biāo)
肖特基場發(fā)射電子槍	加速電壓20V~30kV；旁側(cè)二次電子探測器和鏡筒內(nèi)電子探測器
圖像分辨率	≤1nm @ 15 kV；≤1.5 nm @ 1kV
束流密度	> 5300A/cm2
最小束斑尺寸	≤2nm
光刻指標(biāo)
電子束閘	上升沿<100ns
寫視場	≤500×500um
最小單次曝光線寬	10 ±2nm
掃描速度	25 MHz / 50 MHz
圖形發(fā)生器參數(shù)
控制核心	高性能FPGA	停留時間最小增量	10ns
最大掃描速度	50MHz	圖形文件格式	GDSII、DXF、BMP等
D/A分辨率	20位	法拉第杯束流測量	包含
支持的寫場大小	10um~500um	臨近效應(yīng)校正	可選項
束閘支持	5V TTL	激光干涉位移臺	可選項
掃描方式	順序掃描（Z型）、循環(huán)掃描（S型）、螺旋型掃描等多種矢量掃描模式
曝光模式	支持場校準(zhǔn)、場拼接，支持套刻，支持多圖層自動曝光
外接通道支持	支持電子束掃描、工件臺移動、束閘通斷、二次電子檢測