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• 發(fā)布了文章 2025-08-19 10:31

  澤攸科技 | 臺階儀：微觀形貌的精密解析工具 —— 原理、技術與產(chǎn)業(yè)化應用

  

  在精密制造與前沿科研領域，微觀表面形貌的量化表征是保障產(chǎn)品性能與推動技術創(chuàng)新的關鍵環(huán)節(jié)。臺階儀作為一種高精度表面測量儀器，通過對樣品表面高度差、粗糙度及薄膜厚度等參數(shù)的精確獲取，為半導體、納米材料、光學工程等領域提供了不可或缺的技術支撐。

  測量儀 測量設備 精密測量

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• 發(fā)布了產(chǎn)品 2025-08-15 15:14

  電子束光刻機

  

  產(chǎn)品型號：ZEL304G 標配：激光干涉樣品臺 樣品臺行程：≤105 mm 圖像分辨率：≤1nm @ 15 kV；≤1.5 nm @ 1kV

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• 發(fā)布了產(chǎn)品 2025-08-15 15:11

  DMD無掩膜光刻機

  

  產(chǎn)品型號：ZML 紫外光源中心波長：405 nm 曝光均勻度：90%以上 最小特征線寬：0.5um

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• 發(fā)布了產(chǎn)品 2025-08-15 15:09

  全自動臺階儀JS2000C/3000C

  

  產(chǎn)品型號：JS2000C/3000C 臺階高度最大范圍：160um 臺階高度重復性：≤0.5nm 探針加力范圍：0.5mg~50mg

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• 發(fā)布了產(chǎn)品 2025-08-15 15:07

  半自動臺階儀JS100C/200C/300C

  

  產(chǎn)品型號：JS100C/200C/300C 樣品尺寸：6寸（JS100C）/ 8寸（JS200C）/ 12寸（JS 重復性測量偏差：≤0.5nm(1o lum標準塊重復掃描30次) 注釋：詳情咨詢澤攸科技

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• 發(fā)布了產(chǎn)品 2025-08-15 15:05

  手動臺階儀JS10C

  

  產(chǎn)品型號：JS10C 型號：JS10C

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• 發(fā)布了產(chǎn)品 2025-08-15 15:02

  ZEM Pro單晶燈絲臺式掃描電鏡

  

  產(chǎn)品型號：ZEM Pro 分辨率：優(yōu)于3nm 放大倍數(shù)：360000

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• 發(fā)布了產(chǎn)品 2025-08-15 11:46

  ZEM20臺式掃描電鏡

  

  產(chǎn)品型號：ZEM20 分辨率：優(yōu)于4nm 放大倍數(shù)：360000

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• 發(fā)布了產(chǎn)品 2025-08-15 11:38

  ZEM Ultra場發(fā)射臺式掃描電鏡

  

  產(chǎn)品型號：ZEM Ultra 分辨率：優(yōu)于2.5nm 放大倍數(shù)：100萬倍

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• 發(fā)布了文章 2025-08-14 10:07

  澤攸科技 | 電子束光刻（EBL）技術介紹

  

  電子束光刻（EBL）是一種無需掩模的直接寫入式光刻技術，其工作原理是通過聚焦電子束在電子敏感光刻膠表面進行納米級圖案直寫。

  光刻機 電子束

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