澤攸科技ZML10A是一款創(chuàng)新的桌面級無掩膜光刻設(shè)備，專為高效、精準的微納加工需求設(shè)計。該設(shè)備采用高功率、高均勻度的LED光源，并結(jié)合先進的DLP技術(shù)，實現(xiàn)了黃光或綠光引導(dǎo)曝光功能，真正做到“所見即所得”，極大提升了操作便捷性和工藝可控性。其獨特的光路結(jié)構(gòu)和高精度直線電機位移臺確保了卓越的曝光精度和重復(fù)定位能力，同時配備CCD相機逐場自動對焦系統(tǒng)，進一步優(yōu)化了成像質(zhì)量和工藝穩(wěn)定性。設(shè)備支持電動物鏡切換和激光主動對焦功能，能夠靈活應(yīng)對不同應(yīng)用場景的需求。其緊湊的桌面小型化設(shè)計不僅節(jié)省空間，還便于在實驗室或生產(chǎn)環(huán)境中部署。此外，ZML10A配備了直觀易用的軟件界面，大幅降低了操作門檻，即使是初學者也能快速上手。無論是超材料結(jié)構(gòu)、電極圖案還是微流控芯片等復(fù)雜微納結(jié)構(gòu)的制備，ZML10A都能提供可靠的支持，是科研工作者和工業(yè)用戶的理想選擇。
? 技術(shù)特點
▲ 桌面小型化
▲ 高功率、高均勻度LED刻寫光源
▲ 綠光引導(dǎo)曝光，所見即所得
▲ CCD相機逐場圖像自動對焦
▲ 高精度直線電機位移臺
▲ 用戶友好，易于操作的軟件界面
? 光路原理結(jié)構(gòu)圖
? 主要指標
關(guān)鍵技術(shù)指標 | |||
紫外光源中心波長 | 405 nm | 單次寫場曝光面積 | 0.16*0.16mm (@0.5um) |
曝光均勻度 | 90%以上 | 刻寫速率 | 80mm^2/min(1um特征線寬) |
最小特征線寬 | 0.5um | 支持圖片格式 | DXF、GDS、bmp、png等 |
配置 | 基礎(chǔ)版 | 專業(yè)版 | |
光源 | 強光LED:405nm | ||
DMD芯片 | DLP6500 | ||
單場曝光面積 | 0.16*0.16mm (@0.5um)、0.4*0.4mm(@0.7um) 0.8*0.8mm (@1um)、1.6*1.6mm (@2um) | ||
相機 | 大靶面顯微相機（支持尺寸測量） | ||
最小等間隔線寬 | 0.8um | 0.5um | |
拼接精度 | ±0.3um | ±0.3um | |
套刻精度 | ±0.5um | ±0.5um | |
刻寫速度 | 20mm^2/min(1um特征線寬) | 80mm^2/min(1um特征線寬) | |
運動臺 | 高精度直線電機(重復(fù)定位精度±0.25um) | 高精度直線電機(重復(fù)定位精度±0.25um) | |
物鏡轉(zhuǎn)換器 | 手動物鏡切換 | 電動物鏡切換 | |
對焦模組 | CCD圖像自動對焦 | 激光主動對焦 | |
支持硅片尺寸 | 4inch | 4 inch / 8inch | |
樣品厚度 | 0-10mm | 0-10mm | |
? 應(yīng)用案例
▲ 微流控芯片
▲ DMD紫外光刻實現(xiàn)套刻功能
▲ 碲納米網(wǎng)格刻蝕后套刻電極
▲ 灰度光刻菲涅爾透鏡【3D灰度光刻實現(xiàn)菲涅爾透鏡，從掃面電鏡的截面圖中可以看出臺階連續(xù)變化】
▲ 二維材料電極【蒸鍍并剝離后的二維材料電極，蒸鍍電極為Ti/Au/Ti(總共12nm)】
▲ DMD紫外光與電子束聯(lián)合光刻【使用的機型為ZML10A 和 ZEL304G】
懇請注意：因市場發(fā)展和產(chǎn)品開發(fā)的需要，本產(chǎn)品資料中有關(guān)內(nèi)容可能會根據(jù)實際情況隨時更新或修改，恕不另行通知，不便之處敬請諒解。如有疑問或需要更多詳細信息，請隨時聯(lián)系澤攸科技咨詢。
