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芯片靜態(tài)功耗是什么?如何產(chǎn)生?ATECLOUD-IC芯片測試系統(tǒng)如何測試?

納米軟件(系統(tǒng)集成) ? 來源: 納米軟件(系統(tǒng)集成) ? 作者: 納米軟件(系統(tǒng)集 ? 2023-10-08 15:30 ? 次閱讀
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在芯片的眾多測試項(xiàng)目中芯片的功耗測試可謂重中之重,因?yàn)樾酒墓牟粌H關(guān)系著芯片的整體工作性能也對芯片的效率有著非常重大的影響。芯片的功耗測試包括動(dòng)態(tài)功耗和靜態(tài)功耗。

芯片靜態(tài)功耗是什么?

芯片的靜態(tài)功耗也叫做芯片靜態(tài)電流,它是芯片測試中的非常重要的指標(biāo)之一,可以直接決定芯片的整體消耗與工作效率,過大的靜態(tài)電流會導(dǎo)致芯片效率低下,減少芯片的使用壽命同時(shí)影響芯片的整體性能,因此對于同一款芯片來說靜態(tài)功耗越小,芯片的質(zhì)量測越好。

芯片靜態(tài)功耗如何產(chǎn)生?

芯片靜態(tài)功耗是由芯片內(nèi)部的晶體管的漏電流和互偶效應(yīng)等因素共同影響而產(chǎn)生的。當(dāng)晶體管關(guān)閉時(shí),漏電流仍然存在,這就是造成靜態(tài)功耗的主要原因。此外,芯片內(nèi)部的不同模塊之間交互作用也會導(dǎo)致靜態(tài)功耗的增加。

芯片靜態(tài)功耗的大小有什么影響?

芯片靜態(tài)功耗的大小是由制造工藝、器件參數(shù)以及芯片結(jié)構(gòu)等因素綜合決定的。制造工藝的不同會導(dǎo)致晶體管的大小和電流特性的差異,從而影響芯片的靜態(tài)功耗。為了減小芯片的靜態(tài)功耗,通??梢酝ㄟ^采用CMOS工藝進(jìn)行制造、優(yōu)化芯片設(shè)計(jì)布局、減少晶體管使用數(shù)量等方法。

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ATECLOUD-IC芯片測試系統(tǒng)

ATECLOUD-IC系統(tǒng)測試芯片靜態(tài)功耗

目前市場上的測量方法是手動(dòng)測量采集芯片的電壓和電流,然后得出芯片的平均功耗或者靜態(tài)功耗。不過這種測試方法只能針對小批量同規(guī)格的芯片,因?yàn)槭謩?dòng)測試中的采集電路精度不夠高,人為采集會出現(xiàn)錯(cuò)漏等原因,會產(chǎn)生一定的測試誤差,導(dǎo)致測試結(jié)果均為平均值或估值。

所以對于大批量測試和要求精度高的企業(yè)來說還是需要自動(dòng)的芯片測試系統(tǒng),如納米軟件的ATECLOUD-IC芯片測試系統(tǒng)只需將測試儀器和芯片連接好之后,運(yùn)行軟件即可完成靜態(tài)功耗的測量,不同參數(shù)的配置與儀器操作完全由軟件完成,無需人工修改參數(shù)與讀取記錄數(shù)據(jù),可以一次對多個(gè)芯片進(jìn)行同時(shí)測量,測試的效率與精度相比與手動(dòng)測試來說有極大的提升。此外數(shù)據(jù)自動(dòng)采集與分析功能,也可以免去人工紙質(zhì)報(bào)告的記錄與分析,避免出現(xiàn)人工錯(cuò)漏,也極大的減少了人力與時(shí)間成本,從而提升企業(yè)的核心競爭力。

審核編輯 黃宇

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