芯片電極圖案設計的重要性

當前，芯片廠在LED芯片電極圖案設計過程中，僅僅是針對芯片進行相對簡單的測量，獲得整體的亮度、波長和電壓等參數(shù)，并不能精確地描述芯片的光分布情況，這樣容易導致芯片的色度和亮度不均勻、光源整體效率低等問題。而由于缺乏專業(yè)的測試設備和測試經(jīng)驗，LED芯片廠對芯片發(fā)光不均勻的現(xiàn)象束手無策，沒有直觀的數(shù)據(jù)支持，無法從根本上改進芯片品質。

通過LED芯片發(fā)光均勻度測試，可以從特定角度拍攝芯片影像，建立一個芯片亮度輸出的發(fā)光圖像，接收被測芯片的光信號，提供芯片發(fā)光效果圖和光強數(shù)據(jù)。其中，芯片發(fā)光效果圖能直觀地體現(xiàn)出芯片發(fā)光的均勻程度，判斷電極圖案設計的優(yōu)劣，明確改進方向，優(yōu)化電極圖案。

發(fā)光均勻度評判電極圖案設計的優(yōu)劣

芯片的電極圖案對芯片的整體亮度、發(fā)光效率、電壓大小影響較大。根據(jù)芯片的發(fā)光均勻度進行電極圖案優(yōu)化后，可以改善電流擴展分布能力，提高電流分布的均勻性，減小電流聚集效應，降低工作電壓，減小串聯(lián)電阻，減少焦耳熱的產(chǎn)生，減弱紅移現(xiàn)象，從而提升芯片的可靠性。

優(yōu)化電極圖案的過程中，要兼顧電流擴展性和遮光面積。例如，對于電極圖案設計，可增加低亮度區(qū)域金手指的長度，來增加電流擴展性，提升低亮度區(qū)域的亮度；同樣，也可以縮小高亮地區(qū)的金手指寬度，減少該區(qū)域的電流擴展性，降低亮度，以達到提高芯片整體發(fā)光均勻度的目的。

又例如，對于低亮度區(qū)域還可以設置電流擴展層或增加電流擴展層厚度，以增加電流擴展性；相反，對于高亮度就可以設置電流阻擋層來減小電流密度，以形成均勻分布的電流，同樣可以達到提高芯片整體發(fā)光均勻度的目的。一般，在發(fā)光均勻度滿足要求的情況下，要盡量減少遮光面積，提升發(fā)光效率。

LED芯片電極圖案設計與發(fā)光均勻度優(yōu)化是一個復雜而關鍵的環(huán)節(jié)，它直接關系到芯片的性能和品質。通過專業(yè)的發(fā)光均勻度測試，可以直觀地了解芯片的發(fā)光情況，為電極圖案的優(yōu)化提供科學依據(jù)。

因此，芯片廠應高度重視電極圖案設計與發(fā)光均勻度優(yōu)化工作，積極引入專業(yè)的測試設備和技術，不斷提升芯片的設計水平和制造工藝，以滿足市場對高性能LED芯片的需求。