為了不斷滿足新一代系統(tǒng)單晶片（SoC） 的嚴格設計目標，新思科技在臺積電最先進的 N2 製程中提供數(shù)位與客製化設計 EDA 流程。相較於N3E 製程，臺積公司N2 製程採用奈米片（nanosheet）電晶體結構，在相同功耗下可提升速度達 15% ，或在相同速度下可減少30%的功率，同時還能提高晶片密度。新思科技對整體 EDA技術的大量投入讓設計人員能夠快速啟動N2製程設計，不僅為SoC帶來差異化同時也能縮短上市時程。

臺積公司設計基礎架構管理部負責人Dan Kochpatcharin表示：「臺積公司與新思科技協(xié)助雙方客戶在臺積公司最先進的 N2 製程中透過新思科技完整的EDA 解決方案，實現(xiàn)一流的設計結果。雙方長期的合作幫助創(chuàng)新者在各式應用中滿足或超越最嚴苛的產品設計目標；這些應用包括高效能運算、行動和人工智慧等?！?/p>

新思科技 EDA事業(yè)群策略與產品管理副總裁Sanjay Bali說道：「新思科技和臺積公司持續(xù)推進半導體技術，在最新的 N2 製程上挑戰(zhàn)設計物理的極限。在臺積公司N2 製程中運用新思科技數(shù)位與客製化設計流程能讓設計人員大大受益於臺積公司N2製程的先進功能，并縮短上市時程?！?/p>

新思科技獲認證的EDA和 IP 解決方案在臺積電3奈米製程技術的成功，建立了雙方在N2上的合作基礎，迄今已有數(shù)十家業(yè)界領先公司藉此成功實現(xiàn)投片（tape-out）。新思科技的客戶可仰賴經認證的數(shù)位與客製化設計流程、新思科技基礎IP和介面 IP以及新思科技晶片生命週期管理 （SLM） 的晶片內（in-chip）製程、電壓和溫度 （PVT） 監(jiān)控 IP 來提升N3 設計。 而有意將 N4 和 N5 設計轉移到 N3E 的設計人員則可利用新思科技 EDA 類比遷移流程，有效率地在不同製程節(jié)點中重復使用同一設計。

新思科技 （Synopsys）

新思科技是專為開發(fā)電子產品及軟體應用創(chuàng)新公司提供「硅晶到軟體（Silicon to Software?）」解決方案的最佳合作伙伴。新思科技名列美國標普500指數(shù)成分股，長期以來是全球電子設計自動化（EDA）和半導體IP領域的領導者，并發(fā)展成為提供軟體品質及安全測試的領導廠商。不論是針對開發(fā)先進半導體系統(tǒng)單晶片（SoC）的設計工程師，或正在撰寫應用程式且要求高品質及安全性的軟體開發(fā)工程師，新思科技都能提供所需的解決方案，以協(xié)助工程師完成創(chuàng)新、高品質并兼具安全性的產品。