18video性欧美19sex,欧美高清videosddfsexhd,性少妇videosexfreexxx片中国,激情五月激情综合五月看花,亚洲人成网77777色在线播放

0
  • 聊天消息
  • 系統(tǒng)消息
  • 評(píng)論與回復(fù)
登錄后你可以
  • 下載海量資料
  • 學(xué)習(xí)在線課程
  • 觀看技術(shù)視頻
  • 寫文章/發(fā)帖/加入社區(qū)
會(huì)員中心
創(chuàng)作中心

完善資料讓更多小伙伴認(rèn)識(shí)你,還能領(lǐng)取20積分哦,立即完善>

3天內(nèi)不再提示

一種RS-158蝕刻添加劑能有效改善其蝕刻效果

dOcp_circuit_el ? 來源:未知 ? 作者:李倩 ? 2018-08-08 16:25 ? 次閱讀
加入交流群
微信小助手二維碼

掃碼添加小助手

加入工程師交流群

1 引言

蝕刻是印制線路板加工中進(jìn)行圖形轉(zhuǎn)移后實(shí)現(xiàn)線路圖形的關(guān)健工藝,它看上去簡(jiǎn)單,但實(shí)際上,如果在蝕刻階段出現(xiàn)問題將會(huì)影響線路板的質(zhì)量,特別是在生產(chǎn)細(xì)線路或高精度印制電路板時(shí),尤為重要。近年來電子工業(yè)迅猛發(fā)展,尤其是以蘋果為代表的電子產(chǎn)品向著高密度、細(xì)線路、細(xì)間距的趨勢(shì)發(fā)展,對(duì)印刷線路板的蝕刻技術(shù)提出了更高的精細(xì)化要求。先進(jìn)電子產(chǎn)品要求PCB線路細(xì)至1.6mil甚至更低,如何確保蝕刻效果達(dá)到其工藝要求變得越來越重要。本文介紹了一種RS-158蝕刻添加劑能有效改善其蝕刻效果,具備提高蝕刻因子1.4~2倍,降低側(cè)蝕度、提高蝕刻均勻性和提升產(chǎn)品良率等優(yōu)點(diǎn)。

2 側(cè)蝕問題

線路制作是將覆銅箔基板上不需要的銅用蝕刻液以化學(xué)反應(yīng)方式予以除去,使其形成所需要的電路圖形。而作為線路部份的銅,采用感光圖形轉(zhuǎn)移或絲網(wǎng)印刷的方法在其表面覆蓋一層有機(jī)抗蝕層或金屬抗蝕層來防止其被蝕刻掉。

蝕刻質(zhì)量包括導(dǎo)線線寬的一致性和側(cè)蝕程度。介于腐蝕液的固有特點(diǎn),蝕刻液在蝕刻過程中,不僅向下而且左右方向都產(chǎn)生蝕刻作用,所以側(cè)蝕幾乎是不可避免的。側(cè)蝕問題被定義為一個(gè)具體的數(shù)值來管控(蝕刻因子=2C/(B-A)),稱為蝕刻因子(見圖1示),即正蝕深度與側(cè)蝕寬度之比值。在印刷電路工業(yè)中,蝕刻因子管控標(biāo)準(zhǔn)并沒有準(zhǔn)確定義,但行業(yè)內(nèi)一般至少要求蝕刻因子3以上。

圖1 蝕刻因子示意圖

3 蝕刻改善分析

為了適應(yīng)智能電子產(chǎn)品精密化封裝的需求,線路板制作越來越精細(xì)化,線路寬度更降至2mil甚至1.5mil以下,這對(duì)線路板蝕刻技術(shù)提出了前所未有的挑戰(zhàn)。甚至有廠商因?yàn)楫a(chǎn)品無法達(dá)到理想的精度和良率,導(dǎo)致先進(jìn)電子產(chǎn)品的推出受阻。為滿足終端客戶的需求,解決精細(xì)化PCB生產(chǎn)工藝蝕刻難題,提升蝕刻良率,減少側(cè)蝕,通常采用對(duì)蝕刻設(shè)備的改進(jìn)及蝕刻參數(shù)的管控,這些辦法對(duì)減小側(cè)蝕有一定幫助,但對(duì)于越來越精細(xì)的線路而言,作用不大。因此,采用蝕刻添加劑的方式才是從根本上解決側(cè)蝕問題的最佳方式。所以,本文中提及一種RS-158蝕刻添加劑,可以從根本上解決精細(xì)化PCB生產(chǎn)工藝蝕刻難題。

3.1 RS-158蝕刻添加劑使用方法及作用

RS-158蝕刻添加劑可直接添加于蝕刻母液中使用,操作簡(jiǎn)單。為了開缸和后續(xù)添加時(shí)控制方便,將RS-158蝕刻添加劑分為RS-158A與RS-158B。RS-158A:主要作用加速垂直咬蝕力(即加快正蝕速度),開缸后如出現(xiàn)下降速度超過25%,可單獨(dú)添加RS-158A;RS-158B:主要作用緩蝕(即減慢側(cè)蝕速度),開缸后如出現(xiàn)上底線細(xì)而下底毛邊大,可單獨(dú)加RS-158B。RS-158蝕刻添加劑主要作用是通過保護(hù)劑吸附于銅面,當(dāng)正面受到噴淋壓力時(shí)“開口”,而側(cè)壁壓力方向與之齊平,保護(hù)劑仍附于線路側(cè)壁,再通過正面的加速咬蝕,達(dá)到平衡,使之正面咬穿同時(shí)側(cè)面不受咬蝕或較少側(cè)蝕。無需改變現(xiàn)有工藝條件,只需根據(jù)不同設(shè)備及母液要求調(diào)整參數(shù)即可,且對(duì)于強(qiáng)酸及強(qiáng)氧化性的蝕刻液體系性質(zhì)穩(wěn)定。在保證PCB產(chǎn)品品質(zhì)的前提下,RS-158蝕刻添加劑用量少,客戶不會(huì)產(chǎn)生成本增加的壓力。

3.2 使用前后蝕刻因子對(duì)比

RS-158蝕刻添加劑能在保證線寬的前提下大大提高細(xì)線路的蝕刻因子,在原有的蝕刻因子基礎(chǔ)上提高1.4~2倍左右,見表1、表2,尤其適用于細(xì)間距的精細(xì)線路蝕刻(2mil/2mil與1.6mil/1.6mil線路)要求。

通過表1、表2中可以看出,使用RS-158蝕刻添加劑后蝕刻因子由2.27增加至4.50,蝕刻因子得到很大的提高。

3.3 使用前后切片對(duì)比

對(duì)PCB切片進(jìn)行對(duì)比,見圖2。

圖2 使用RS-158蝕刻添加劑前后的PCB切片對(duì)比圖

從圖2中可以看出,根據(jù)PCB切片圖像顯示,使用RS-158蝕刻添加劑后上底線寬,下底毛邊小,很大程度的提高了蝕刻因子。

3.4 使用前后產(chǎn)品良率對(duì)比

通過對(duì)同一料號(hào)未加入RS-158蝕刻添加劑和加入RS-158蝕刻添加劑良率進(jìn)行對(duì)比,見表3。

從表3中可以看出,RS-158蝕刻添加劑在降低PCB單層報(bào)廢率同時(shí),還極大的提升了AOI一次良率等問題,為客戶帶來效率、成本和品質(zhì)的改善。

4 結(jié)論

采用RS-158蝕刻添加劑可以提高蝕刻因子1.4~2倍,降低側(cè)蝕度,提高蝕刻均勻性,提升AOI一次良率,降低單層報(bào)廢率、Open、Short和線粗,減少蝕刻不凈等。

聲明:本文內(nèi)容及配圖由入駐作者撰寫或者入駐合作網(wǎng)站授權(quán)轉(zhuǎn)載。文章觀點(diǎn)僅代表作者本人,不代表電子發(fā)燒友網(wǎng)立場(chǎng)。文章及其配圖僅供工程師學(xué)習(xí)之用,如有內(nèi)容侵權(quán)或者其他違規(guī)問題,請(qǐng)聯(lián)系本站處理。 舉報(bào)投訴
  • 電路圖
    +關(guān)注

    關(guān)注

    10447

    文章

    10748

    瀏覽量

    549786
  • 線路板
    +關(guān)注

    關(guān)注

    23

    文章

    1287

    瀏覽量

    49180
  • PCB設(shè)計(jì)
    +關(guān)注

    關(guān)注

    396

    文章

    4881

    瀏覽量

    93545
  • 蝕刻
    +關(guān)注

    關(guān)注

    10

    文章

    426

    瀏覽量

    16430
  • 可制造性設(shè)計(jì)

    關(guān)注

    10

    文章

    2065

    瀏覽量

    16324
  • 華秋DFM
    +關(guān)注

    關(guān)注

    20

    文章

    3512

    瀏覽量

    6082

原文標(biāo)題:用于精細(xì)線路生產(chǎn)中蝕刻添加劑的研究

文章出處:【微信號(hào):circuit-ele,微信公眾號(hào):PCB工藝技術(shù)】歡迎添加關(guān)注!文章轉(zhuǎn)載請(qǐng)注明出處。

收藏 人收藏
加入交流群
微信小助手二維碼

掃碼添加小助手

加入工程師交流群

    評(píng)論

    相關(guān)推薦
    熱點(diǎn)推薦

    蝕刻機(jī)遠(yuǎn)程監(jiān)控物聯(lián)網(wǎng)解決方案

    。這過程對(duì)設(shè)備運(yùn)行的穩(wěn)定性提出了極高的要求,任何微小的波動(dòng)都可能影響到產(chǎn)品的質(zhì)量和生產(chǎn)效率。但設(shè)備管理仍存在薄弱之處。 行業(yè)痛點(diǎn) 數(shù)據(jù)采集困難:蝕刻機(jī)自動(dòng)化程度高,但PLC品牌協(xié)議多樣,導(dǎo)致數(shù)據(jù)采集與設(shè)備聯(lián)網(wǎng)復(fù)
    的頭像 發(fā)表于 10-15 10:13 ?82次閱讀
    <b class='flag-5'>蝕刻</b>機(jī)遠(yuǎn)程監(jiān)控物聯(lián)網(wǎng)解決方案

    晶圓蝕刻用得到硝酸鈉溶液

    晶圓蝕刻過程中確實(shí)可能用到硝酸鈉溶液,但應(yīng)用場(chǎng)景較為特定且需嚴(yán)格控制條件。以下是具體分析:潛在作用機(jī)制氧化性輔助清潔:在酸性環(huán)境中(如與氫氟酸或硫酸混合),硝酸鈉釋放的NO??離子可作為強(qiáng)氧化
    的頭像 發(fā)表于 10-14 13:08 ?76次閱讀
    晶圓<b class='flag-5'>蝕刻</b>用得到硝酸鈉溶液

    皮秒激光蝕刻機(jī)在消費(fèi)電子領(lǐng)域的創(chuàng)新應(yīng)用

    隨著消費(fèi)電子產(chǎn)品向著更輕薄、更智能、體化和高性能化的方向發(fā)展,傳統(tǒng)加工技術(shù)已難以滿足日益精密的制造需求。激光蝕刻技術(shù),特別是先進(jìn)的皮秒激光蝕刻,以其非接觸、高精度、高靈活性和“冷加
    的頭像 發(fā)表于 08-27 15:21 ?600次閱讀
    皮秒激光<b class='flag-5'>蝕刻</b>機(jī)在消費(fèi)電子領(lǐng)域的創(chuàng)新應(yīng)用

    濕法蝕刻工藝與顯示檢測(cè)技術(shù)的協(xié)同創(chuàng)新

    制造工藝的深刻理解,將濕法蝕刻關(guān)鍵技術(shù)與我們自主研發(fā)的高精度檢測(cè)系統(tǒng)相結(jié)合,為行業(yè)提供從工藝開發(fā)到量產(chǎn)管控的完整解決方案。濕法蝕刻工藝:高精度制造的核心技術(shù)M
    的頭像 發(fā)表于 08-11 14:27 ?838次閱讀
    濕法<b class='flag-5'>蝕刻</b>工藝與顯示檢測(cè)技術(shù)的協(xié)同創(chuàng)新

    晶圓蝕刻擴(kuò)散工藝流程

    晶圓蝕刻與擴(kuò)散是半導(dǎo)體制造中兩個(gè)關(guān)鍵工藝步驟,分別用于圖形化蝕刻和雜質(zhì)摻雜。以下是兩者的工藝流程、原理及技術(shù)要點(diǎn)的詳細(xì)介紹:、晶圓蝕刻工藝流程1.
    的頭像 發(fā)表于 07-15 15:00 ?665次閱讀
    晶圓<b class='flag-5'>蝕刻</b>擴(kuò)散工藝流程

    晶圓蝕刻后的清洗方法有哪些

    晶圓蝕刻后的清洗是半導(dǎo)體制造中的關(guān)鍵步驟,旨在去除蝕刻殘留物(如光刻膠、蝕刻產(chǎn)物、污染物等),同時(shí)避免對(duì)晶圓表面或結(jié)構(gòu)造成損傷。以下是常見的清洗方法及其原理:、濕法清洗1.溶劑清洗目
    的頭像 發(fā)表于 07-15 14:59 ?985次閱讀
    晶圓<b class='flag-5'>蝕刻</b>后的清洗方法有哪些

    金屬低蝕刻率光刻膠剝離液組合物應(yīng)用及白光干涉儀在光刻圖形的測(cè)量

    物的應(yīng)用,并探討白光干涉儀在光刻圖形測(cè)量中的作用。 金屬低蝕刻率光刻膠剝離液組合物 配方組成 金屬低蝕刻率光刻膠剝離液組合物主要由有機(jī)溶劑、堿性助劑、緩蝕體系和添加劑構(gòu)成。有機(jī)溶劑如 N - 甲基 - 2 - 吡咯烷酮(NMP)
    的頭像 發(fā)表于 06-24 10:58 ?399次閱讀
    金屬低<b class='flag-5'>蝕刻</b>率光刻膠剝離液組合物應(yīng)用及白光干涉儀在光刻圖形的測(cè)量

    微加工激光蝕刻技術(shù)的基本原理及特點(diǎn)

    上回我們講到了微加工激光切割技術(shù)在陶瓷電路基板的應(yīng)用,這次我們來聊聊激光蝕刻技術(shù)的前景。陶瓷電路基板(Ceramic Circuit Substrate)是一種以高性能陶瓷材料為絕緣基體,表面通過
    的頭像 發(fā)表于 06-20 09:09 ?1069次閱讀

    什么是高選擇性蝕刻

    華林科納半導(dǎo)體高選擇性蝕刻是指在半導(dǎo)體制造等精密加工中,通過化學(xué)或物理手段實(shí)現(xiàn)目標(biāo)材料與非目標(biāo)材料刻蝕速率的顯著差異,從而精準(zhǔn)去除指定材料并保護(hù)其他結(jié)構(gòu)的工藝技術(shù)?。核心在于通過工藝優(yōu)化控制
    的頭像 發(fā)表于 03-12 17:02 ?621次閱讀

    想做好 PCB 板蝕刻?先搞懂這些影響因素

    影響 PCB 板蝕刻的因素 電路板從發(fā)光板轉(zhuǎn)變?yōu)轱@示電路圖的過程頗為復(fù)雜。當(dāng)前,電路板加工典型采用 “圖形電鍍法”,即在電路板外層需保留的銅箔部分(即電路圖形部分),預(yù)先涂覆層鉛錫耐腐蝕層,隨后
    的頭像 發(fā)表于 02-27 16:35 ?999次閱讀
    想做好 PCB 板<b class='flag-5'>蝕刻</b>?先搞懂這些影響因素

    深入探討 PCB 制造技術(shù):化學(xué)蝕刻

    作者:Jake Hertz 在眾多可用的 PCB 制造方法中,化學(xué)蝕刻仍然是行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)。蝕刻以其精度和可擴(kuò)展性而聞名,它提供了一種創(chuàng)建詳細(xì)電路圖案的可靠方法。在本博客中,我們將詳細(xì)探討化學(xué)蝕刻
    的頭像 發(fā)表于 01-25 15:09 ?1057次閱讀
    深入探討 PCB 制造技術(shù):化學(xué)<b class='flag-5'>蝕刻</b>

    蝕刻基礎(chǔ)知識(shí)

    制作氧化局限面射型雷射與蝕刻空氣柱狀結(jié)構(gòu)樣都需要先將磊晶片進(jìn)行蝕刻,以便暴露出側(cè)向蝕刻表面(etched sidewall)提供增益波導(dǎo)或折射率波導(dǎo)
    的頭像 發(fā)表于 01-22 14:23 ?1235次閱讀
    <b class='flag-5'>蝕刻</b>基礎(chǔ)知識(shí)

    芯片濕法蝕刻工藝

    芯片濕法蝕刻工藝是一種在半導(dǎo)體制造中使用的關(guān)鍵技術(shù),主要用于通過化學(xué)溶液去除硅片上不需要的材料。 基本概念 濕法蝕刻一種將硅片浸入特定的化學(xué)溶液中以去除不需要材料的工藝,廣泛應(yīng)用于半
    的頭像 發(fā)表于 12-27 11:12 ?1266次閱讀

    離子液體添加劑用于高壓無負(fù)極鋰金屬電池

    ,醚溶劑氧化受到抑制,鋁腐蝕加劇。因此,在使用LiFSI基濃縮電解質(zhì)時(shí),在不犧牲鍍鋰/剝離效率的情況下抑制LiFSI基電解質(zhì)的Al腐蝕至關(guān)重要。其中,電解質(zhì)添加劑已成為抑制Al腐蝕的最常用方法之,通過配制含有適當(dāng)陰離子和陽離子的離子液體
    的頭像 發(fā)表于 12-10 11:00 ?1885次閱讀
    離子液體<b class='flag-5'>添加劑</b>用于高壓無負(fù)極鋰金屬電池

    半導(dǎo)體蝕刻工藝科普

    過度蝕刻暴露硅晶圓表面可能會(huì)導(dǎo)致表面粗糙。當(dāng)硅表面在HF過程中暴露于OH離子時(shí),硅表面可能會(huì)變得粗糙。
    的頭像 發(fā)表于 11-05 09:25 ?1826次閱讀
    半導(dǎo)體<b class='flag-5'>蝕刻</b>工藝科普