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薄膜厚度測量技術(shù)的綜述:從光譜反射法(SR)到光譜橢偏儀(SE)

Flexfilm ? 2025-07-22 09:54 ? 次閱讀
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薄膜半導(dǎo)體、顯示和二次電池等高科技產(chǎn)業(yè)中被廣泛使用,其厚度通常小于一微米。對于這些薄膜厚度的精確測量對于質(zhì)量控制至關(guān)重要。然而,能夠測量薄膜厚度的技術(shù)非常有限,而光學(xué)方法因其非接觸和非破壞性特點(diǎn)而被廣泛采用。Flexfilm全光譜橢偏儀不僅能夠滿足工業(yè)生產(chǎn)中對薄膜厚度和光學(xué)性質(zhì)的高精度測量需求,還能為科研人員提供豐富的光譜信息,助力新材料的研發(fā)和應(yīng)用。

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光譜反射法(SR)

flexfilm

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光譜反射法(SR)的基本光學(xué)結(jié)構(gòu)與反射光譜SR的光學(xué)配置:

  • 寬帶光源:如鹵鎢燈或LED,覆蓋寬波長范圍以生成干涉光譜。
  • 光譜儀:檢測反射光的光強(qiáng)隨波長的分布(反射光譜)。
  • 無參考鏡:區(qū)別于光譜域干涉儀(SDI),SR僅需樣品反射光。

單層薄膜的多光束干涉模型:光在空氣-薄膜界面(r12)和薄膜-基底界面(r23)發(fā)生多次反射與透射。測量與模型反射光譜的比較:擬合過程:通過調(diào)整模型中的參數(shù)(如薄膜厚度d、折射率N~2等),使模型反射光譜與測量反射光譜盡可能接近。最小二乘法:計算模型反射光譜與測量反射光譜之間的平方差之和,并找到使該值最小的參數(shù)組合,從而確定薄膜的厚度

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高數(shù)值孔徑物鏡中的入射角分布

光譜反射法(SR)中,當(dāng)使用高數(shù)值孔徑(NA)物鏡時,入射光不再是單一角度的正入射,而是以寬范圍的入射角分布照射到薄膜表面。提高測量精度:通過考慮入射角分布,可以更準(zhǔn)確地模擬反射光譜,從而提高薄膜厚度測量的精度。適應(yīng)高分辨率測量:高數(shù)值孔徑物鏡在高分辨率測量中非常重要,但其帶來的入射角分布問題也需要通過理論模型加以解決。c08c4cce-669e-11f0-a486-92fbcf53809c.jpgSR 與干涉法結(jié)合的光學(xué)系統(tǒng)

  • SR 與光譜分辨白光干涉法的組合系統(tǒng)

核心組件:寬帶光源發(fā)出的光經(jīng)分束器分為兩束:一束照射樣品(測量光束),另一束照射參考鏡(參考光束)。兩束反射光匯合后由光譜儀檢測,形成包含薄膜厚度表面輪廓信息的干涉光譜。薄膜厚度測量:通過分析樣品與參考鏡之間的干涉光譜,提取薄膜厚度信息。具體來說,通過傅里葉變換選擇低頻部分的干涉信號,反傅里葉變換后得到薄膜厚度。表面輪廓測量:通過分析高頻部分的干涉信號,提取表面輪廓信息。具體來說,通過傅里葉變換提取相位信息,計算表面高度。

  • SR 與低相干干涉儀(LCI)的組合系統(tǒng)

可以同時測量薄膜厚度和表面輪廓,雙模式切換:

  • 薄膜厚度測量:在SR模式下,使用與傳統(tǒng)SR相同的方法測量薄膜厚度。
  • 表面輪廓測量:在LCI模式下,通過垂直掃描Mirau物鏡,獲取干涉條紋。通過最小二乘法擬合模型化的干涉信號,確定表面輪廓。

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光譜橢偏儀(SE)

flexfilm

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橢圓偏振儀的基本組成與布局

橢偏儀的核心組件:光源(LS)、偏振態(tài)發(fā)生器(PSG)、樣品、偏振態(tài)分析儀(PSA)、探測系統(tǒng)(DOS)以及光電探測元件(PDE)。PSG 和 PSA 通過線性偏振器、補(bǔ)償器或光彈相位調(diào)制器控制入射光和反射光的偏振態(tài),DOS 包含光學(xué)元件對偏振態(tài)的影響。橢圓偏振儀,通過測量偏振態(tài)變化(如穆勒矩陣分量)反推薄膜厚度光學(xué)常數(shù),適用于埃到微米級厚度測量。隨著高科技產(chǎn)業(yè)的飛速發(fā)展,薄膜技術(shù)在半導(dǎo)體、顯示面板、電池等領(lǐng)域的應(yīng)用日益廣泛,薄膜厚度的精確測量對于保障產(chǎn)品質(zhì)量和性能至關(guān)重要。本文綜述了光譜反射法(SR)光譜橢偏儀(SE)兩種主流的光學(xué)測量技術(shù),在保持非接觸、無損優(yōu)勢的基礎(chǔ)上,需進(jìn)一步融合人工智能算法以提升動態(tài)測量速度,拓展多物理場耦合下的復(fù)雜結(jié)構(gòu)表征能力。

Flexfilm全光譜橢偏儀

flexfilm

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全光譜橢偏儀擁有高靈敏度探測單元光譜橢偏儀分析軟件,專門用于測量和分析光伏領(lǐng)域中單層或多層納米薄膜的層構(gòu)參數(shù)(如厚度)和物理參數(shù)(如折射率n、消光系數(shù)k)

  • 先進(jìn)的旋轉(zhuǎn)補(bǔ)償器測量技術(shù):無測量死角問題。
  • 粗糙絨面納米薄膜的高靈敏測量:先進(jìn)的光能量增強(qiáng)技術(shù),高信噪比的探測技術(shù)。
  • 秒級的全光譜測量速度:全光譜測量典型5-10秒。
  • 原子層量級的檢測靈敏度:測量精度可達(dá)0.05nm。

隨著薄膜測量技術(shù)向更高精度與效率發(fā)展,Flexfilm全光譜橢偏儀代表了新一代橢偏技術(shù)的突破。其通過寬光譜覆蓋(紫外至近紅外)與高速多通道探測,實(shí)現(xiàn)了對超薄薄膜與復(fù)雜多層結(jié)構(gòu)的快速、全波段光學(xué)表征。原文出處:A Review of Thinfilm Thickness Measurements using Optical Methods

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