半導體行業(yè)是現(xiàn)代制造業(yè)的核心基石,被譽為“工業(yè)的糧食”,而晶圓是半導體制造的核心基板,其質量直接決定芯片的性能、良率和可靠性。晶圓隱裂檢測是保障半導體良率和可靠性的關鍵環(huán)節(jié)。
晶圓檢測
通過合理搭配工業(yè)相機與光學系統(tǒng),可實現(xiàn)亞微米級缺陷檢測,提升半導體制造的良率和效率。
SWIR相機晶圓隱裂檢測系統(tǒng),使用紅外相機發(fā)揮波段長穿透性強的特性進行材質透檢捕捉內(nèi)部隱裂缺陷。搭配CCS紅外燈箱+Moritex紅外鏡頭強強聯(lián)合助力于晶圓檢測行業(yè)。
選型注意事項
l 潔凈室兼容性:相機需符合ISO Class 1-3潔凈標準。
l 抗振動設計:避免生產(chǎn)環(huán)境振動導致成像模糊。
l 數(shù)據(jù)接口:Camera Link HS或CoaXPress 2.0保障大數(shù)據(jù)量傳輸。
晶圓隱裂檢測需根據(jù)工藝階段(前道/后道)、晶圓類型(硅/化合物半導體)和成本預算選擇合適方案。光學+AI是目前主流方向,而超聲波/紅外技術適用于特殊需求。未來,隨著制程微縮和封裝技術演進,隱裂檢測將向更高精度、更智能化發(fā)展。
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