在半導(dǎo)體制造技術(shù)領(lǐng)域，英飛凌再次取得了新的里程碑。近日，該公司宣布成功推出全球最薄的硅功率晶圓，這一突破性進(jìn)展展示了英飛凌在半導(dǎo)體材料處理方面的卓越實(shí)力。

這款新推出的硅功率晶圓直徑為300mm，厚度僅為20μm，相當(dāng)于頭發(fā)絲的四分之一，是目前市場(chǎng)上最先進(jìn)的40-60μm晶圓厚度的一半。這一創(chuàng)新不僅代表了半導(dǎo)體材料加工技術(shù)的極致，更為未來(lái)的電子產(chǎn)品設(shè)計(jì)提供了更多可能性。

此前，英飛凌已經(jīng)宣布推出全球首款300mm氮化鎵（GaN）功率半導(dǎo)體晶圓，并在馬來(lái)西亞居林建成了全球最大的200mm碳化硅（SiC）功率半導(dǎo)體晶圓廠(chǎng)。此次最薄硅功率晶圓的推出，進(jìn)一步鞏固了英飛凌在功率半導(dǎo)體領(lǐng)域的領(lǐng)先地位。

英飛凌表示，這款最薄硅功率晶圓的推出，將為電子產(chǎn)品帶來(lái)更高的性能和更低的功耗，助力實(shí)現(xiàn)更廣泛的應(yīng)用場(chǎng)景。未來(lái)，英飛凌將繼續(xù)致力于半導(dǎo)體技術(shù)的創(chuàng)新與發(fā)展，為全球客戶(hù)提供更加優(yōu)質(zhì)的產(chǎn)品和服務(wù)。