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存儲(chǔ)技術(shù)進(jìn)入爆發(fā)期,SK海力士321層NAND,HBM3e,LPDDR5T紛至沓來(lái)

Simon觀察 ? 來(lái)源:電子發(fā)燒友網(wǎng) ? 作者:黃山明 ? 2023-08-14 09:25 ? 次閱讀
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電子發(fā)燒友網(wǎng)報(bào)道(文/黃山明)我們?nèi)缃裾幱谛畔r(shí)代,而存儲(chǔ)作為信息的載體,對(duì)當(dāng)今技術(shù)的發(fā)展至關(guān)重要。通常存儲(chǔ)芯片是以半導(dǎo)體電路作為存儲(chǔ)媒介的存儲(chǔ)器,用于保存二進(jìn)制數(shù)據(jù)的記憶設(shè)備,也是現(xiàn)代數(shù)字系統(tǒng)的重要組成部分。

伴隨著AI服務(wù)器、車載等領(lǐng)域的快速發(fā)展,對(duì)存儲(chǔ)需求也在快速提升,促使存儲(chǔ)技術(shù)的加速迭代。近期,許多新型存儲(chǔ)產(chǎn)品相繼問(wèn)世,也預(yù)示著存儲(chǔ)技術(shù)已然進(jìn)入到了爆發(fā)期。

首個(gè)300層以上4D NAND被披露

近日,SK海力士美國(guó)公開(kāi)了其321層4D閃存開(kāi)發(fā)的進(jìn)展,并展示了現(xiàn)階段開(kāi)發(fā)的樣品,也成為當(dāng)下全球首家研發(fā)300層以上NAND的企業(yè),并表示將在2025年上半年實(shí)現(xiàn)量產(chǎn)。

通常NAND閃存會(huì)根據(jù)在1個(gè)單位中儲(chǔ)存多少個(gè)信息來(lái)區(qū)分規(guī)格SLC為1個(gè),MLC為2個(gè),TLC為3個(gè),QLC為4個(gè),PLC為5個(gè)等。隨著信息存儲(chǔ)量的增加,在同一晶圓面積上可儲(chǔ)存更多的數(shù)據(jù)。

據(jù)了解,這款321層1Tb TLC NAND的效率比上一代238層512Gb提高了59%,主要得益于數(shù)據(jù)存儲(chǔ)單元可以以更多的單片數(shù)量堆棧至更高,從而在相同芯片上實(shí)現(xiàn)更大的存儲(chǔ)容量,進(jìn)一步提高了單位晶圓上芯片的產(chǎn)出數(shù)量。

值得注意的是,此次SK海力士公布的兩個(gè)亮點(diǎn)一個(gè)是321層堆疊,另一個(gè)則是4D NAND。先說(shuō)4D NAND,想要知道什么是4D NAND,先要了解2D NAND,這些都是閃存的類型。

所謂2D NAND,便是將用于存儲(chǔ)數(shù)據(jù)的單元水平并排地放置,但放置單元的空間量有限,如果試圖縮小單元?jiǎng)t會(huì)降低閃存的可靠性。隨著人們需求的不斷增加,2D NAND已經(jīng)很難在SSD容量上繼續(xù)增加,因此3D NAND開(kāi)始誕生。

3D NAND主要指閃存芯片的存儲(chǔ)單元為3D的,也就是除了平放外,還可以在縱向上疊放單元,從而獲得更高存儲(chǔ)密度來(lái)實(shí)現(xiàn)更高的存儲(chǔ)容量,還可獲得更高的耐久度和更低的功耗。

但3D NAND也有其劣勢(shì),盡管隨著先進(jìn)的工藝帶來(lái)更大的容量,但3D NAND的可靠性和穩(wěn)定性以及性能方面都在下降,因?yàn)楣に囋较冗M(jìn),NAND的氧化層越薄,其可靠性也就越差,廠商就需要采取額外手段彌補(bǔ)這一問(wèn)題,這必然會(huì)提高成本。

這就引入到了4D NAND,其實(shí)4D NAND可以被看做是一種特殊的3D NAND,只不過(guò)單芯片采用了4層架構(gòu)設(shè)計(jì),結(jié)合了3D CTF(電荷捕獲閃存)設(shè)計(jì)、PUC(制造NAND Flash時(shí)先形成周邊區(qū)域再堆棧晶體)技術(shù)。這樣可以提高NAND閃存的存儲(chǔ)密度和容量,同時(shí)降低制造成本,取名為4D,不過(guò)是為了更好的營(yíng)銷。

而層數(shù)的堆疊也是在3D或4D的基礎(chǔ)上進(jìn)行,就好像建造高層樓房一樣將存儲(chǔ)單元垂直堆疊,對(duì)企業(yè)而言增加堆疊層數(shù)并減少閃存單元高度是提升成本競(jìng)爭(zhēng)力的關(guān)鍵。

由于NAND主要用于制造SSD存儲(chǔ)數(shù)據(jù),隨著3D NAND和4D NAND的普及,目前市場(chǎng)上消費(fèi)級(jí)SSD容量已經(jīng)可以達(dá)到4TB以上,企業(yè)級(jí)SSD更是達(dá)到了128TB以上。

今年3月份三星電子對(duì)外表示,預(yù)計(jì)在未來(lái)十年單顆SSD的容量可達(dá)1PB,業(yè)界預(yù)計(jì)QLC/PLC閃存架構(gòu)與1000層堆疊技術(shù)有望助力SSD邁入PB級(jí)。

AI助力HBM3e,LPDDR5T通過(guò)聯(lián)發(fā)科性能驗(yàn)證

由于近年來(lái)AI技術(shù)的快速發(fā)展,尤其是生成式AI的爆發(fā),促使對(duì)存儲(chǔ)芯片的快速迭代。這時(shí)GDDR和HBM都被推向了市場(chǎng),此前電子發(fā)燒友網(wǎng)也對(duì)這些技術(shù)做過(guò)詳細(xì)的報(bào)道。

GDDR起初是作為高性能DDR存儲(chǔ)器規(guī)格而設(shè)計(jì)的,后續(xù)逐漸發(fā)展到一些數(shù)據(jù)密集型系統(tǒng),如汽車、AI、深度學(xué)習(xí)等。

而HBM則是作為GDDR的替代品,主要用于GPU和加速器。GDDR旨在以較窄的通道提供更高的數(shù)據(jù)速率,進(jìn)而實(shí)現(xiàn)必要的吞吐量,而HBM2e通過(guò)8條獨(dú)立通道解決這一問(wèn)題,其中每條通道都使用更寬的數(shù)據(jù)路徑(每通道128位),并以3.6Gbps左右的較低速度運(yùn)行,HBM3標(biāo)準(zhǔn)則使用16條獨(dú)立通道(每通道64位),速度翻倍。因此,HBM存儲(chǔ)器能夠以更低的功耗提供高吞吐量,而規(guī)格上比GDDR存儲(chǔ)器更小。

最新的HBM3e是HBM3的下一代產(chǎn)品,SK海力士也是當(dāng)前全球唯一一家在量產(chǎn)HBM3的企業(yè),預(yù)計(jì)將在2024年上半年實(shí)現(xiàn)量產(chǎn)HBM3e。也正是因?yàn)镠BM的優(yōu)異性能,包括英偉達(dá)、AMD、微軟、亞馬遜等在內(nèi)的科技巨頭都已經(jīng)向SK海力士下單預(yù)購(gòu)HBM3e。

英偉達(dá)最新發(fā)布專為生成式AI打造的 GH200 Grace Hopper平臺(tái),便采用了HBM3e。由于需求暴增,SK海力士方面已經(jīng)決定明年擴(kuò)大生產(chǎn),并采用最先進(jìn)的10nm等級(jí)的第五代技術(shù),這些新增產(chǎn)能將大部分用來(lái)生產(chǎn)HBM3e。

在移動(dòng)DRAM上,SK海力士也有了不小的進(jìn)展。今年初SK海力士便宣布,已成功開(kāi)發(fā)出當(dāng)前速度最快的移動(dòng)DRAM產(chǎn)品LPDDR5T(Low Power Double Data Rate 5 Turbo),并已向客戶提供了樣品。

相比LPDDR5X每秒8.5Gb的速度,LPDDR5T速度再次提升了13%,達(dá)到9.6Gbps,甚至為了體現(xiàn)其強(qiáng)勁的速度,還在其名稱后加上了“Turbo”作為后綴。

值得注意的是,LPDDR5T仍然運(yùn)行在JEDEC組織規(guī)定的1.01-1.12V超低電壓范圍內(nèi),采用1αnm(第四代10nm級(jí)別)工藝制造,可以在達(dá)到高性能的同時(shí)實(shí)現(xiàn)低功耗。

此外,SK海力士還向客戶提供了LPDDR5T芯片組合為16GB的封裝樣品,該樣品的數(shù)據(jù)處理速度可以達(dá)到每秒77GB,相當(dāng)于每秒處理15部全高清電影。LPDDR5T的應(yīng)用范圍也不只局限于智能手機(jī),還將擴(kuò)展到AI、機(jī)器學(xué)習(xí)、AR/VR等領(lǐng)域。

而在近期,SK海力士宣布,已經(jīng)與聯(lián)發(fā)科下一代天璣旗艦移動(dòng)平臺(tái)完成LPDDR5T內(nèi)存的性能驗(yàn)證,預(yù)計(jì)聯(lián)發(fā)科的天璣9300將支持LPDDR5T。最快的話,在今年下半年就有望能夠看到搭載天璣9300的智能手機(jī)上市,屆時(shí)也可以體驗(yàn)LPDDR5T對(duì)其性能到底帶來(lái)多少提升。

總結(jié)

在生成式AI、機(jī)器學(xué)習(xí)等新興技術(shù)的帶動(dòng)下,存儲(chǔ)技術(shù)要求越來(lái)越高,不僅需要實(shí)現(xiàn)更大的存儲(chǔ)空間、更低的功耗、更快的讀寫(xiě)速度,同時(shí)在成本上也做了一定的要求。為了應(yīng)對(duì)這些需求,越來(lái)越高堆疊層數(shù)的NAND被推出,而針對(duì)不同的應(yīng)用場(chǎng)景,還推出了如HBM3e,LPDDR5T等相關(guān)存儲(chǔ)器,存儲(chǔ)技術(shù)正在快速向前推進(jìn)。

值得注意的是,目前這些最先進(jìn)的存儲(chǔ)器產(chǎn)品幾乎都是由SK海力士領(lǐng)頭生產(chǎn)。從市場(chǎng)來(lái)看,當(dāng)前SK海力士為全球第二大存儲(chǔ)芯片廠商,市場(chǎng)份額約為24%,第一為三星,市場(chǎng)份額約為39%。隨著這些最新的存儲(chǔ)器產(chǎn)品推出,SK海力士有望向三星發(fā)起挑戰(zhàn)。

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