光刻機哪個國家能造
光刻機作為芯片產(chǎn)業(yè)制造中不可缺少的設(shè)備，也是工時和成本占比最高的設(shè)備，更是全球頂尖技術(shù)和人類智慧的結(jié)晶。那么目前有哪些國家可以制造出光刻機呢？
目前在制造光刻機領(lǐng)域中，荷蘭已經(jīng)達到了領(lǐng)先全球的水平，荷蘭的ASML公司占據(jù)了全球市場份額的80%.
除了荷蘭以外，日本和中國也可以制造出光刻機。日本代表的企業(yè)是佳能和尼康，中國的代表企業(yè)是上海微電子。雖然我國目前智能制造出90納米的光刻機，但是我國已經(jīng)加大了科研投入和人才培養(yǎng)，相信在不久的將來，就能制造出屬于自己的光刻機。
審核編輯：姚遠香
聲明：本文內(nèi)容及配圖由入駐作者撰寫或者入駐合作網(wǎng)站授權(quán)轉(zhuǎn)載。文章觀點僅代表作者本人，不代表電子發(fā)燒友網(wǎng)立場。文章及其配圖僅供工程師學習之用，如有內(nèi)容侵權(quán)或者其他違規(guī)問題，請聯(lián)系本站處理。
舉報投訴
-
微電子
+關(guān)注
關(guān)注
18文章
403瀏覽量
42511 -
光刻機
+關(guān)注
關(guān)注
31文章
1191瀏覽量
48655 -
ASML
+關(guān)注
關(guān)注
7文章
732瀏覽量
43234
發(fā)布評論請先 登錄
相關(guān)推薦
熱點推薦
國產(chǎn)高精度步進式光刻機順利出廠
近日，深圳穩(wěn)頂聚芯技術(shù)有限公司（簡稱“穩(wěn)頂聚芯”）宣布，其自主研發(fā)的首臺國產(chǎn)高精度步進式光刻機已成功出廠，標志著我國在半導體核心裝備領(lǐng)域取得新進展。 此次穩(wěn)頂聚芯出廠的步進式光刻機屬于WS180i
電子直寫光刻機駐極體圓筒聚焦電極
電子直寫光刻機駐極體圓筒聚焦電極
隨著科技進步，對電子顯微鏡的精度要求越來越高。電子直寫光刻機的精度與電子波長和電子束聚焦后的焦點直徑有關(guān)，電子波長可通過增加加速電極電壓來減小波長，而電子束聚焦后
發(fā)表于 05-07 06:03
成都匯陽投資關(guān)于光刻機概念大漲，后市迎來機會
【2025年光刻機市場的規(guī)模預(yù)計為252億美元】 光刻機作為半導體制造過程中價值量和技術(shù)壁壘最高的設(shè)備之一，其在半導體制造中的重要性不言而喻。 目前，全球市場對光刻機的需求持續(xù)增長，尤其是在先
不只依賴光刻機！芯片制造的五大工藝大起底！
在科技日新月異的今天，芯片作為數(shù)字時代的“心臟”，其制造過程復雜而精密，涉及眾多關(guān)鍵環(huán)節(jié)。提到芯片制造，人們往往首先想到的是光刻機這一高端設(shè)備，但實際上，芯片的成功制造遠不止依賴光刻機這一單一工具。本文將深入探討芯片制造的五大關(guān)鍵工藝，揭示這些工藝如何協(xié)同工作，共同鑄就了
什么是光刻機的套刻精度
在芯片制造的復雜流程中，光刻工藝是決定晶體管圖案能否精確“印刷”到硅片上的核心環(huán)節(jié)。而光刻Overlay(套刻精度)，則是衡量光刻機將不同層電路圖案對準精度的關(guān)鍵指標。簡單來說，它就像建造摩天大樓
半導體設(shè)備光刻機防震基座如何安裝？
半導體設(shè)備光刻機防震基座的安裝涉及多個關(guān)鍵步驟和考慮因素，以確保光刻機的穩(wěn)定運行和產(chǎn)品質(zhì)量。首先，選擇合適的防震基座需要考慮適應(yīng)工作環(huán)境。由于半導體設(shè)備通常在潔凈的環(huán)境下運行，因此選擇的搬運工具如
如何提高光刻機的NA值
本文介紹了如何提高光刻機的NA值。 為什么光刻機希望有更好的NA值？怎樣提高？ ? 什么是NA值？ ? 如上圖是某型號的光刻機配置，每代光刻機的NA值會比上一代更大一些。NA，又名
光刻機的分類與原理
本文主要介紹光刻機的分類與原理。 ? 光刻機分類 光刻機的分類方式很多。按半導體制造工序分類，光刻設(shè)備有前道和后道之分。前道光刻機包括芯片
組成光刻機的各個分系統(tǒng)介紹
? 本文介紹了組成光刻機的各個分系統(tǒng)。 光刻技術(shù)作為制造集成電路芯片的重要步驟，其重要性不言而喻。光刻機是實現(xiàn)這一工藝的核心設(shè)備，它的工作原理類似于傳統(tǒng)攝影中的曝光過程，但精度要求極高，能夠達到
用來提高光刻機分辨率的浸潤式光刻技術(shù)介紹
? 本文介紹了用來提高光刻機分辨率的浸潤式光刻技術(shù)。 芯片制造：光刻技術(shù)的演進 過去半個多世紀，摩爾定律一直推動著半導體技術(shù)的發(fā)展，但當光刻機的光源波長卡在193nm，芯片制程縮小至6
光刻機的工作原理和分類
? 本文介紹了光刻機在芯片制造中的角色和地位，并介紹了光刻機的工作原理和分類。? ? ? ?? 光刻機：芯片制造的關(guān)鍵角色 ? ? 光刻機在芯片制造中占據(jù)著至關(guān)重要的地位，被譽為芯片制
一文看懂光刻機的結(jié)構(gòu)及雙工件臺技術(shù)
，光刻機作為IC制造裝備中最核心、技術(shù)難度最大的設(shè)備，其重要性日益凸顯。本文將從光刻機的發(fā)展歷程、結(jié)構(gòu)組成、關(guān)鍵性能參數(shù)以及雙工件臺技術(shù)展開介紹。 一、光刻機發(fā)展歷程 光刻機的發(fā)展歷程
一文了解光刻機成像系統(tǒng)及光學鍍膜技術(shù)
高端光刻機研發(fā)是一個系統(tǒng)工程，涉及到各方面技術(shù)的持續(xù)改進和突破，在材料科學方面涉及低吸收損耗石英材料、高純度薄膜材料的開發(fā)，在精密光學領(lǐng)域涉及精密光學加工技術(shù)、鍍膜技術(shù)、光學集成裝配技術(shù)等，在
工商網(wǎng)監(jiān)
評論