18video性欧美19sex,欧美高清videosddfsexhd,性少妇videosexfreexxx片中国,激情五月激情综合五月看花,亚洲人成网77777色在线播放

搜索歷史

清空
搜索熱詞
      0
      • 聊天消息
      • 系統(tǒng)消息
      • 評論與回復(fù)
      VIP于 到期 續(xù)費
      登錄后你可以
      • 下載海量資料
      • 學(xué)習(xí)在線課程
      • 觀看技術(shù)視頻
      • 寫文章/發(fā)帖/加入社區(qū)
      會員中心
      創(chuàng)作中心
      發(fā)布
      創(chuàng)作活動

      完善資料讓更多小伙伴認識你，還能領(lǐng)取20積分哦，立即完善>

      3天內(nèi)不再提示

      離子刻蝕機 解剖芯片

      電子工程師 ? 來源：上海季豐電子 ? 作者：上海季豐電子 ? 2020-09-27 18:34 ? 次閱讀
      加入交流群
      微信小助手二維碼

      掃碼添加小助手

      加入工程師交流群

      責(zé)任編輯：xj

      原文標題：芯片解剖，逐層剝離

      文章出處：【微信公眾號：上海季豐電子】歡迎添加關(guān)注！文章轉(zhuǎn)載請注明出處。

      聲明：本文內(nèi)容及配圖由入駐作者撰寫或者入駐合作網(wǎng)站授權(quán)轉(zhuǎn)載。文章觀點僅代表作者本人，不代表電子發(fā)燒友網(wǎng)立場。文章及其配圖僅供工程師學(xué)習(xí)之用，如有內(nèi)容侵權(quán)或者其他違規(guī)問題，請聯(lián)系本站處理。 舉報投訴
      • 芯片
        +關(guān)注

        關(guān)注

        462

        文章

        53252

        瀏覽量

        455450
      • 反應(yīng)離子刻蝕
        +關(guān)注

        關(guān)注

        0

        文章

        6

        瀏覽量

        1915

      原文標題：芯片解剖，逐層剝離

      文章出處：【微信號：zzz9970814，微信公眾號：上海季豐電子】歡迎添加關(guān)注！文章轉(zhuǎn)載請注明出處。

      收藏 人收藏
      加入交流群
      微信小助手二維碼

      掃碼添加小助手

      加入工程師交流群

        評論

        相關(guān)推薦
        熱點推薦

        干法刻蝕機在精密光柵加工中的應(yīng)用優(yōu)勢

        上海伯東 IBE 離子束刻蝕機, 離子束具有方向性強的特點, 刻蝕過程中對材料的側(cè)向侵蝕 (鉆蝕)少, 能形成陡峭的光柵槽壁, 適合加工高精
        的頭像 發(fā)表于 08-21 15:18 ?767次閱讀
        干法<b class='flag-5'>刻蝕</b><b class='flag-5'>機</b>在精密光柵加工中的應(yīng)用優(yōu)勢

        芯明天壓電納米技術(shù)如何幫助刻蝕機打造精度天花板

        在半導(dǎo)體制造流程中，每一塊納米級芯片的誕生，背后都是一場在原子層面展開的極致精密較量。而在這場微觀世界的“精密之戰(zhàn)”中，刻蝕機堪稱光刻機的最佳搭檔，二者協(xié)同發(fā)力，推動著
        的頭像 發(fā)表于 07-17 10:00 ?436次閱讀
        芯明天壓電納米技術(shù)如何幫助<b class='flag-5'>刻蝕</b><b class='flag-5'>機</b>打造精度天花板

        干法刻蝕的評價參數(shù)詳解

        在MEMS制造工藝中，干法刻蝕是通過等離子體、離子束等氣態(tài)物質(zhì)對薄膜材料或襯底進行刻蝕的工藝，其評價參數(shù)直接影響器件的結(jié)構(gòu)精度和性能。那么干法刻蝕
        的頭像 發(fā)表于 07-07 11:21 ?1064次閱讀
        干法<b class='flag-5'>刻蝕</b>的評價參數(shù)詳解

        遠程等離子體刻蝕技術(shù)介紹

        遠程等離子體刻蝕技術(shù)通過非接觸式能量傳遞實現(xiàn)材料加工，其中熱輔助離子束刻蝕（TAIBE）作為前沿技術(shù)，尤其適用于碳氟化合物（FC）材料（如聚四氟乙烯PTFE）的精密處理。
        的頭像 發(fā)表于 06-30 14:34 ?797次閱讀
        遠程等<b class='flag-5'>離子體刻蝕</b>技術(shù)介紹

        芯片刻蝕原理是什么

        芯片刻蝕是半導(dǎo)體制造中的關(guān)鍵步驟，用于將設(shè)計圖案從掩膜轉(zhuǎn)移到硅片或其他材料上，形成電路結(jié)構(gòu)。其原理是通過化學(xué)或物理方法去除特定材料（如硅、金屬或介質(zhì)層），以下是芯片刻蝕的基本原理和分類： 1. 刻蝕
        的頭像 發(fā)表于 05-06 10:35 ?1310次閱讀

        等離子體刻蝕和濕法刻蝕有什么區(qū)別

        等離子體刻蝕和濕法刻蝕是集成電路制造過程中常用的兩種刻蝕方法，雖然它們都可以用來去除晶圓表面的材料，但它們的原理、過程、優(yōu)缺點及適用范圍都有很大的不同。 ? ? 1. 刻蝕原理和機制的
        的頭像 發(fā)表于 01-02 14:03 ?1015次閱讀

        上海伯東IBE離子束刻蝕機介紹

        IBE (Ion Beam Etching) 離子束刻蝕, 通常使用 Ar 氣體作為蝕刻氣體, 將與電子的沖擊產(chǎn)生的離子在 200~ 1000ev 的范圍內(nèi)加速, 利用離子的物理動能,
        的頭像 發(fā)表于 12-26 15:21 ?1418次閱讀

        芯片濕法刻蝕方法有哪些

        芯片濕法刻蝕方法主要包括各向同性刻蝕和各向異性刻蝕。為了讓大家更好了解這兩種方法，我們下面準備了詳細的介紹，大家可以一起來看看。 各向同性刻蝕
        的頭像 發(fā)表于 12-26 13:09 ?1357次閱讀

        芯片濕法刻蝕殘留物去除方法

        包括濕法清洗、等離子體處理、化學(xué)溶劑處理以及機械研磨等。以下是對芯片濕法刻蝕殘留物去除方法的詳細介紹： 濕法清洗 銅腐蝕液（ST250）：銅腐蝕液主要用于去除聚合物殘留物，其對聚合物的去除能力比較強。 稀氟氫酸（DHF）
        的頭像 發(fā)表于 12-26 11:55 ?1735次閱讀

        腔室壓力對刻蝕的影響

        。 腔室壓力由什么決定的？ 1，氣體流量越高，壓力越大。 2，真空泵排氣，泵速越高，腔室壓力越低。 腔室壓力對于刻蝕的影響 1，離子轟擊能量。低壓力，分子平均自由程大，離子的碰撞幾率小，能量耗散少，故能量高。 2，
        的頭像 發(fā)表于 12-17 18:11 ?1382次閱讀
        腔室壓力對<b class='flag-5'>刻蝕</b>的影響

        干法刻蝕時側(cè)壁為什么會彎曲

        離子轟擊的不均勻性 干法刻蝕通常是物理作用和化學(xué)作用相結(jié)合的過程，其中離子轟擊是重要的物理刻蝕手段。在刻蝕過程中，
        的頭像 發(fā)表于 12-17 11:13 ?1258次閱讀
        干法<b class='flag-5'>刻蝕</b>時側(cè)壁為什么會彎曲

        芯片制造中的濕法刻蝕和干法刻蝕

        在芯片制造過程中的各工藝站點，有很多不同的工藝名稱用于除去晶圓上多余材料，如“清洗”、“刻蝕”、“研磨”等。如果說“清洗”工藝是把晶圓上多余的臟污、particle、上一站點殘留物去除掉，“刻蝕
        的頭像 發(fā)表于 12-16 15:03 ?2011次閱讀
        <b class='flag-5'>芯片</b>制造中的濕法<b class='flag-5'>刻蝕</b>和干法<b class='flag-5'>刻蝕</b>

        芯片制造過程中的兩種刻蝕方法

        本文簡單介紹了芯片制造過程中的兩種刻蝕方法 ? 刻蝕（Etch）是芯片制造過程中相當重要的步驟。 刻蝕主要分為干
        的頭像 發(fā)表于 12-06 11:13 ?2834次閱讀
        <b class='flag-5'>芯片</b>制造過程中的兩種<b class='flag-5'>刻蝕</b>方法

        上海伯東IBE離子束刻蝕機優(yōu)勢

        上海伯東 IBE 離子束刻蝕機可用于反應(yīng)離子刻蝕 RIE 不能很好刻蝕的材料。是一種干法物理納米級別的刻
        的頭像 發(fā)表于 11-27 10:06 ?984次閱讀
        上海伯東IBE<b class='flag-5'>離子</b>束<b class='flag-5'>刻蝕</b><b class='flag-5'>機</b>優(yōu)勢

        為什么干法刻蝕又叫低溫等離子體刻蝕

        本文介紹了為什么干法刻蝕又叫低溫等離子體刻蝕。 什么是低溫等離子體刻蝕，除了低溫難道還有高溫嗎？等離子體的溫度？? ? 等離子體是物質(zhì)的第四
        的頭像 發(fā)表于 11-16 12:53 ?1298次閱讀
        為什么干法<b class='flag-5'>刻蝕</b>又叫低溫等<b class='flag-5'>離子體刻蝕</b>