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東芝存儲:存儲級內(nèi)存比采用SLC技術的TLC快10倍

jf_1689824270.4192 ? 來源:電子發(fā)燒友網(wǎng) ? 作者:jf_1689824270.4192 ? 2019-08-07 18:11 ? 次閱讀
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東芝存儲公司6日宣布推出一種新的存儲器(SCM)——XL-FLASH,并開始提供樣品。該產(chǎn)品使用1位/單元SLC技術,使用96層堆疊工藝實現(xiàn)3D閃存BiCSFLASH的高速讀寫。128Gbit芯片的樣品出貨將于9月開始,大規(guī)模生產(chǎn)將于2020年開始。

XL-FLASH采用16物理平面結(jié)構(gòu),具有出色的并行處理能力,以及與現(xiàn)有TLC(3位/單元)BiCSFLASH相比可實現(xiàn)高速處理的電路技術。它實現(xiàn)了5μs或更短的讀取延遲,速度提高了10倍,并且定位為新的存儲器層次結(jié)構(gòu),填補了DRAM和NAND閃存之間的性能差異。

此外,與傳統(tǒng)DRAM相比,該產(chǎn)品可降低每比特成本,并且是支持NAND閃存等大容量的非易失性存儲器。東芝存儲將通過XL-FLASH響應不斷擴大的SCM市場的需求,包括用于數(shù)據(jù)中心和企業(yè)存儲的高速SSD。

聲明:本文內(nèi)容及配圖由入駐作者撰寫或者入駐合作網(wǎng)站授權轉(zhuǎn)載。文章觀點僅代表作者本人,不代表電子發(fā)燒友網(wǎng)立場。文章及其配圖僅供工程師學習之用,如有內(nèi)容侵權或者其他違規(guī)問題,請聯(lián)系本站處理。 舉報投訴
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